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第275章 难题[3/3页]

　　看着两人商业互吹，也是大感有趣，刚刚你还说秦勋不靠谱呢，这会就夸起来了。

　　很快几人来到实验室，马卫光给秦勋介绍了下原中电科45所的光刻机项目负责人岳智，几人寒暄了一阵，随后给秦勋介绍项目的进展。

　　他们三只团队分工不同，光电所与原中电科45所的团队合作开发193纳米的光刻机，而林本坚团队专注研究湿式光刻法。

　　“我们在光源方面已经有了较好的突破，经多次实验研究，我们采用的准分子机关已经能够到达248nm，下一步就可以实验193nm的准分子激光……”

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　　马卫光抚摸着他们光电所之前自主研发0.8-1微米分步重复投影光刻机，面色冷峻地说道：“我们现在面临的最主要的问题有三个！”

　　“第一就是西方国家对我们的技术封锁。因为技术壁垒的原因，我们没办法和海外企业合作，共同研发新技术，只能一点一点的突破，加大投入力度。”

　　“第二便是技术储备不足，没有借鉴和参照物。因为某些特殊原因，我们在光刻机上的研究停滞了好几年，直到现在才重拾旧路。半导体设备的研发并没有捷径可走，我们只能通过试错，不断吸取教训，从而积累到经验，获得技术上的进步。”

　　“第三便是光刻机太过于复杂。光刻机制造需要结合整个产业的力量。其实从某种意义上来讲，光刻机并不是一个单一的技术，而是一个技术合集。一台光刻机需要至少10万个部件，很多部件都受到专利保护，或者受到禁运限制。即便我们拥有高端光刻机制造能力，在零件上也很难全部得到满足！”

　　岳智皱了皱眉头道：“其实前两个问题虽然也很头痛，但是并不难解决，最多花点时间。现在我们三只团队通力协助，又有林教授这样经验丰富的大专家，突破也只是时间问题。最难的还是第三点！”

第275章 难题[3/3页]

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