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第275章 难题[2/3页]

　　的商用上还要更长的时间。

　　现在他们能做的就是不断的投入，研发，投入，研发，其他能做的恐怕也只有招揽和培养人才了。

　　所以秦勋现在能做的也是有限，公司厂区建设这块在如火如荼的建设当中，工程有神洲派来的团队盯着，设备采购也有神洲派来的专员和中科院的人员装门组成团队，一切都是井然有序。

　　现在中科院光电所、中电科45所、神洲技术团队（林本坚等人）三只队伍正紧密合作，开始启动193纳米DUV光刻机项目项目、湿式光刻法的攻克。

　　虽然国外的尼康、ASML等公司已经将光刻机的波长提升到193纳米有一些年头，但是只要他们还没有做出突破，那他们就有弯道超车的机会。

　　只要他们能成功制造出193纳米的光刻机，然后在原有193纳米干式光刻镜头上发展浸润式光刻，改用水代替空气作为介质，注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间，那就能将进入光阻的光波长缩到134纳米，一举实现飞跃式的进步！

　　“我们苦心研究光刻领域，呕心沥血了这么多年，终于见到一丝赶超外国列强的希望了啊！”马卫光忍不住感慨道。

　　“一切都会越来越好的！现在我们国家经济快速发展，科技领域也在奋起直追，终有一日，我们会赶英超美，重新屹立在世界民族之巅！”秦勋信心满满地说道。

　　马卫光深深地看了秦勋一眼，笑了笑地说道：“你倒是信心满满！”

　　“我这是对您和林教授这样的科学家们有信心，有你们这一批兢兢业业，为科学事业呕心沥血的科学家们，我们祖国何愁不能强大！”秦勋义正言辞地说道。

　　“行了，别拍马屁了！”马卫光摆摆手，可是脸上的笑容却怎么也掩不住。

　　“你小子也不错，现在的年轻人很少有你这样沉得下心来做一点事情的！”马卫光夸赞道。

　　林本坚

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