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第195章 郁闷的台积电[2/3页]

　　头们失去了林本坚这个鬼才，短时间之内应该想不到浸润式光刻法这种方法，最起码2年之内不会有人想到。

　　而且现在国内大厂已经投入巨资在研发157纳米干式光刻机上，光是ASML就投入了超过7亿美元的研发费用。

　　而尼康等小和国企业的研发费用更是远远不止这些，据相关人士猜测，他们的研发投入至少在20亿美元之上。

　　这种情况下他们已经骑虎难下，如果没有外来因素的干扰下，他们已经很难再转向。

　　如果这个时候技术大转弯，不就等于是宣告他们的研发费用都血本无归了！

　　实际上在前世，林本坚拿着这项沉浸式光刻方案，跑遍米国、德邦、小和等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。

　　甚至有某公司高层给台积电COO蒋尚义捎了句狠话，让林本坚不要搅局。

　　当林本坚拜访到荷兰的时候，当时尚是小角色的ASML决定赌一把，他们在157纳米干式光刻机上比其他公司少的多，抱着不成功便成仁的决心，他们押注在浸润式技术，结果证明他们赌对了。

　　仅用一年时间，ASML与林本坚在2004年就拼全力赶出了第一台样机，并先后夺下IBM和台积电等大客户的订单。

　　而现在这个机会将落到他们的手上。

　　当然，要以浸润式光刻技术实现突破还有种种难题。

　　比如在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。

　　再比如水中的气泡会影响光刻成果等等。

　　而且研发的道路上肯定还会遇到更多的问题，这些是他们不得不去面对的。

　　秦勋与林本坚聊了一些技术难题，又谈了一些对国外半导体巨头的看法，两人聊得非常火热。

　　秦勋对于国外半导体巨头如数家珍，这让林本坚佩服的很。

　　他不知道秦勋从哪里收集到的这些信息，但是对方显然不是信口胡纠，有些信息和他掌握的情

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