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第194章 沉浸式光刻技术[3/3页]

　　勋扫视了众人一圈，淡淡地说道：而且我们不是没有弯道超车的机会！

　　机会，什么机会？马卫光立马追问道，林金同也是一副很感兴趣的样子。

　　这件事情是我们最高的机密，我希望两位领导能帮我们保密！秦勋直起身，严肃的说道。

　　马卫光与林金同对视了一眼，随后点点头道：你放心吧，不管成与不成，我们都会为你保密的，如果你不放心，我可以签署保密协议！

　　秦勋摇摇头道：那倒不用，我相信两位领导！

　　说完秦勋看了看林本坚。

　　林本坚点点头，缓缓说道：现在国外的光刻机以干式光刻技术为主，也就是以空气作为镜头与晶圆间的介质，让光罩上的图形在晶圆上成像。

　　马卫光点点头，这是现在光刻机的主流技术，无论是小和国的尼康还是荷兰的ASML采用的都是这种技术。

　　林本坚接着说道：采用这种技术，要想将光刻机的光源波长突破193nm，就只能从光源出发。

　　就好像雕刻东西一样，花样要精细，刀尖就得锋利，干式光刻技术只能想尽办法把193nm的光波再磨细。

　　我有一种设想，如果我们改用水代替空气作为介质，注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间，那激光的波长就会大大降低。

　　听完林本坚的设想，马卫光一巴掌重重地拍在桌面上，震得茶水都泛起涟漪。

　　马卫光激动地说道：天才的想法！我们都知道，水会降低光的波长，以水为介质就能突破波长的限制。林博士，我老马是服了你了！

　　林本坚摇了摇头道：其实也是小秦提醒我的，不然我也想不到这个方法！

　　马卫光认真地看了秦勋一眼，现在他相信了林金同的话，这是一个有理想、有能力、有才华的年轻人。

　　也许他真的能带领华夏的光刻机产业突破国外的封锁！

　　他认真地说道：小秦，这件事情我要向上面汇报一下，不过我保证，不会透露一点这个天才想法，你给我7天的时间，7天之内我一定给你答复！

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