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第185章 世纪难题-光刻机[3/3页]

　　动化步进式光刻机。

　　自动化步进式光刻机在80年代初引领风潮。

　　那个时候，小和国的尼康异军突起，与GCA各占市场30%份额。

　　两者并立并没有持续太久，尼康就独自为王，占领超过50%的份额。

　　后来，小和国的佳能公司则凭借对准器的优势也占领了一席之地。

　　此时，光刻机未来的王者，荷兰的一家叫做ASML的公司还在小步快跑的阶段。

　　这家公司诞生于1984年，脱胎于飞利浦实验室，以研究自动化步进式光刻机起家，早几年它想和Pamp;amp;E、GCA、IBM合作，但这些大佬都不理它。

　　这段时间，小和国的尼康、佳能光刻机技术是世界领先的，ASML也难以匹敌。ASML知道仅靠一己之力是不可能和日本光刻机相抗衡，所以，它联合全球知名的光刻机核心零部件厂商，让它们成为ASML的公司股东。这样不仅将利益捆绑在了一起，而且背后也有了资金支撑。

　　纵然如此，ASML也很难与尼康、佳能抗衡。

　　直到2000年台积电关键人物林本坚带着颠覆ASML发展的浸入式光刻设想与ASML合作。

　　2004年，ASML和台积电共同研发出第一台浸润式微影机，优秀的性能和稳定的技术，让ASML的产品全面碾压尼康，自此ASML一往无前。

　　华夏利用光刻技术制造集成电路芯片的时间，大致应当是在1965年前后。

　　国内最早的光刻机是国营1445所于1974年开始研制，至1977年研制成功的GK-3型半自动光刻机，那是一台接触式光刻机。

　　1990年3月，中科院光电所研制的IOE1010G直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率1.25微米，主要技术指标接受米国GCA8000型的水平，相当于国外80年代中期水平。

　　如果能够将林本坚浸入式光刻的技术拿到手中，也许就能够让国内的光刻机技术突破，那将会是华夏之福。

第185章 世纪难题-光刻机[3/3页]

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